Infraestrutura laboratorial


 

Litografia Laser: Heidelberg DWL-66FS

Gerador de padrões de alta resolução para fabricação de fotomáscaras e escrita direta de substratos.
Especificações e capacidades técnicas:

- Máscaras quadradas de 1x1 até 6x6 polegadas (25x25mm até 150x150mm);

- Wafers de 50 a 200mm de diâmetro;

- Estruturas até 0.6 μm endereçamento do ´grid´ de até 25nm;

- Alinhamento por cima e por baixo do wafer (´top and back-side alignment´);

- Cabeças de auto-foco para escrita (‘Auto-focus write heads’);

- Formatos de CAD aceitos: DXF, GDS-II, CIF, Gerber, STL;

Aplicações:

- Litografia direta que resiste sobre wafers de silício ou outros materiais com diâmetro até 150 mm em escala micrométrica e sub-micrométrica;

- Geração de fotomáscaras para litografia óptica;

- Litografia direta em níveis cinza para gerar microestruturas com relevo tridimensional.

 

Sistema de Deposição por Spray - ExactaCoat

A ExactaCoat é um sistema de deposição que opera em 3 eixos totalmente programável e fechado que é ideal para qualquer aplicação de revestimento de pulverização de precisão em escala de laboratório.
O sistema opera com pulverização por meio de atomização ultra-sônicos Sono-Tek, facilmente integrados. As larguras do padrão de pulverização podem ser facilmente configuradas moldadas dependendo do bico utilizado.
Possui muitos recursos opcionais para personalizá-lo de acordo com a pesquisa, como suporte porta amostras com aquecimento e vácuo, câmera, suportes de fixação, configurações de bocal múltiplo, dispenser líquido para nanosuspensões e muito mais.
Os bocais ultra-sônicos são perfeitamente adequados para aplicações de pulverização de precisão que muitas vezes são impossíveis de alcançar com qualquer outro método de pulverização.
Para saber mais sobre como os bicos ultra-sônicos Sono-Tek funcionam, acesse
A capacidade de deposição de materiais com alta uniformidade e com altas e baixas taxas de fluxo sem obstrução ou excesso durante a pulverização de líquidos permite testes e desenvolvimento de processos de pequena escala num ambiente totalmente seguro e selado. 
A máquina por deposição por Spray ExactaCoat combocais ultra-sônicos de Sono-Tek possuem as seguintes características:
-Precisão da uniformidade do substrato com repetibilidade até ± 2%
-Áreas máximas de cobertura 400 mm x 400 mm x 100 mm (15,75 "x 15,75" x 3,94 ");
-Software de programação baseado em Windows® com importação de imagens;
-Programação simples via "Remote trackball teach";
-Movimento coordenado em todos os três eixos simultaneamente torna o sistema uma ferramenta altamente;
-Flexível para uma infinidade de projetos de revestimento de laboratório.
 

Sistema para prototipagem rápida de placas de circuito impresso-PCI modelo LPKF 103

A LPKF S103 é uma máquina de prototipagem que confecciona placas de circuito impresso através do processo de fresagem, ou seja, a máquina desbasta a camada de cobre por meio de um cortador com gumes (fresa) que atua em movimento rotativo.

Utilização:

O sistema destina-se a Prototipagem de Circuito Impressos através da remoção mecânica de uma fina camada de cobre ao longo do contorno de cada trilha individual a fim de isolá-la eletricamente do restante do cobre da placa. A utilização deste sistema visa substituir os métodos convencionais de fabricação, como os métodos químicos, apresentando uma técnica complementar para a prototipagem rápida e econômica de placas de circuito impresso. O sistema de Prototipagem de Circuito Impressos agiliza o processo de desenvolvimento e a confecção de protótipos de circuitos eletrônicos. O sistema permite ao CTI ter acesso à uma metodologia de confecção de placas de circuito impresso com tecnologia de ponta.

Características:

·O sistema de Prototipagem opera de forma automatizada durante a fresagem das placas com troca automáticas das fresas.

·O sistema reconhecimento automático marcas de alinhamento (sistema fiducial) e função de medição através de câmera digital.

·A fresadora possui controle rotação do motor ajustável de 10.000 a 100.000 rpm, um dispenser automático incorporado e tem a capacidade de fresar circuitos flexíveis FR4, FR3, PTFE, acrílico, alumínio e outros materiais.

·O software de controle compatível com Windows e com o padrão GERBER RS274D, RS274X , DXF, HPGL, ODD++.

·O sistema possui equipamento de galvanização, fotoexpositora e prensa hidráulica automática com gabinete fechado.

 

Sistemas de deposição por Jato de Tinta - Inkjet Dimatix DMP-2850-Fujifilm USA.

São dois sistemas para deposição de materiais por jatos de tinta sendo um voltado para materiais orgânicos (nanotubos, grafenos, polímeros, etc) e outro voltado para materiais metálicos (tintas metálicas, nanopartículas e coloides metálicos) sendo aplicados à :
-Desenvolvimento e avaliação de materiais e fluidos;
-Protótipo e geração de amostras;
-Avaliação de interações fluido e substrato;
-Desenvolvimento de produtos;
-Otimização e avaliação de padrões digitais;
-Deposição de fluidos biológicos incluindo padronização de células, matrizes de DNA, proteômica.

O sistema permite a deposição de materiais fluídicos em substratos de 8x11 polegadas ou A4, utilizando um cartucho piezo elétrico descartável de jato de tinta.
Esta impressora pode criar e definir padrões numa área de cerca de 200 x 300 mm em substratos de até 25 mm de espessura com uma altura Z ajustável.
A temperatura da placa à vácuo utilizada para fixação do substrato pode ser ajustada até 60°C.
A DMP-2850 oferece uma variedade de padrões utilizando software de editor de padrões.
Este sistema permite a fácil impressão de estruturas e amostras para verificação de processos e criação de protótipos.

A DMP-2850 possui ainda os seguintes recursos da câmera no Fiducial:
-Fornece alinhamento de rotação do substrato usando marcas de referência;
-Permite que o posicionamento da origem de impressão corresponda ao posicionamento do substrato;
-Fornece medição de recursos e locais;
-Fornece inspeção e captura de imagem de padrão impresso ou gotas;
-Fornece alinhamento do cartucho ao usar vários cartuchos;
-Permite a colocação de gotas correspondente em substratos previamente padronizados.

A característica mais original deste sistema de impressão é o cabeçote de impressão em si - primeira do gênero no mundo.
A FUJIFILM criou a Dimatix com um cabeçote de impressão em cartucho baseado em MEMS que permite aos usuários criar
e preencher seus próprios fluidos e imprimir imediatamente com o DMP em seu próprio laboratório.
Para minimizar o desperdício de fluidos e materiais caros, cada reservatório de cartucho tem uma capacidade de 1,5 ml.
Cartuchos podem ser facilmente substituídos para facilitar a impressão de uma série de fluidos.
Cada cartucho possuí 6 bicos espaçados linearmente de 254 microns com tamanhos de gota típicos de 1 e 10 picolitros.

 

Espectrômetro modelo Lambda 900 UV/VIS/NIR Spectrometer - Perkin Elmer

A espectroscopia ultravioleta-visível ou a espectrofotometria ultravioleta-visível (UV-Vis ou UV / Vis) envolve a espectroscopia de fotons na região de luz UV-visível e adjacente (perto de ultravioleta (UV) e infravermelho próximo (NIR)).

A absorção nas gamas visíveis afeta diretamente a cor dos produtos químicos envolvidos. Nesta região do espectro eletromagnético, as moléculas passam por transições eletrônicas.
Esta técnica é complementar à espectroscopia de fluorescência, na medida em que a fluorescência lida com transições do estado excitado para o estado fundamental, enquanto a absorção mede as transições do estado fundamental para o estado excitado.

O espectrômetro Perkin Elmer Lambda 900 UV/VIS/NIR é um sistema de medidas com monocromador duplo utilizando lâmpadas pré-alinhadas halogênas (tungsténio e de deutério) como fontes.
O comprimento de onda é de 175 a 3300nm com uma precisão de 0,08 nm na região UV-Visible e 0,3nm na região NIR garantida. Tem um alcance fotométrico de +/- 6 nm no modo de absorvância.
Os acessórios disponíveis incluem uma esfera integradora revestida de Spectralon de 60 mm com uma gama de 200 a 2500 nm para a medição de amostras de elevada densidade óptica.

Especificações técnicas:
-Faixa de comprimento de onda: 190 - 3300 nm
-Precisão: +/- 0,08 nm UV / VIS +/- 0,30 nm NIR
-Gama Fotométrica: +/- 6 A
-Precisão fotométrica: +/- 0,003 A a 1 A
-Faixa: 200 - 2500 nm
-Depolarizador de feixe comum
-Faixa: 190 - 2600 nm
-Polarizador duplo do feixe (Depolarizer) Gama: 300 - 2600 nm (190-2600 nm).

Aplicações:

Filmes de tintas para pintura: cor, brancura, amarelado;
Indústria farmacêuticos e de cosméticos: Controle de Qualidade;
Polímeros: Resistência UV, Controle de Qualidade;
Filmes Finos: Substrato, Espessura de Película, Uniformidade;

 

 

Câmara de caracterização e medidas de emissão de Campo

Este sistema foi desenvolvido no CTI Renato Archer e opera em HV alto vácuo ( >1.0E-6Torr) utilizando bombeio turbo molecular;
- Opera pelo método da Curva de Aproximação (Mammana et al. JVSTB. 2004);
- Tensão de operação da fonte: Até 4KV;
- Tamanho de amostras: Padrão sample plate Omicron 10x10x5mm máximos para trocas rápidas e em série;
- Altura de amostras: Ajustável até 10mm;
- Adequado para caracterização de filmes finos emissores;

 

Sistema de microscopia óptica Olympus modelo MX61
O sistema de microscopia Olympus MX61 é adequado para uso em semicondutores e superfícies planas possuindo:
- Objetivas de 5x, 10x, 20x, 50x e 100x com troca de objetivas automatizada;
- Permite a obtenção de imagens em campo claro(bright field), campo escuro (dark field) e fluorescência;
- Análise com luz refletida e transmitida;
- Estação de trabalho com câmera CCD integrada permite a obtenção de imagens de até 5M Pixel nos formatos jpeg, png, gif dentre outros;
- Mesa de translação com curso XY de 100mm;- Sistema de microscopia opera sob fluxo laminar classe 10.
 

MTS-6000A Plataforma de teste de rede compacta

Solução de teste de Carrier Ethernet de última geração
O MTS-6000A é uma plataforma de testes compacta e leve projetada para todas as fases do ciclo de vida da rede, da instalação até a manutenção de redes de fibra. Com design modular, o MTS-6000A oferece um amplo portfólio de recursos de teste para diversas camadas de rede.
Um único Multi-Services Application module módulo de aplicativo com diversos serviços fornece uma solução integrada para testes de Ethernet, SONET/SDH e camadas mais altas. Os módulos ópticos permitem o teste integral de redes de curta distância, longa distância, FTTx, CWDM e redes de 40 Gbps de alta velocidade.
Aplicações:
-OTDR e testes de nível de potência; 
-Redes Ethernet/IP convergente sem testes e soluções de problemas de interfaces de 10 Mbps a 10 G;
-Testes de TDM/PDH para SONET/SDH em OC-3/STM-1 a OC-192/STM-64;
-Instalação e manutenção de redes OTN até interfaces de 11,1 G com suporte a ODU-0/ODUFlex para interfaces clientes Ethernet/IP;
-Testes dual FC (1, 2, 4, 8, 10 G) para a ativação e manutenção de serviços de SANs e circuitos de baixa latência; 
-Testes de PMD, perfil de atenuação espectral e dispersão cromática (CD);
-Testes de espectro óptico módulo OSA.
 

Analizador de redes modelo OPTIVIW XG Tablet

 

Recursos:
Implantação e resolução de problemas de WLAN integradas;
Isole a causa raiz dos problemas relacionados à infraestrutura;
Teste a qualidade da infraestrutura da rede;
Capacidade portátil para solucionar problemas em qualquer lugar da rede.

Resumo:
O OptiView XG permite que a solução de problemas de infraestrutura de rede Wi-Fi e com fio seja feita pelos técnicos locais, dando a eles portabilidade para irem a qualquer lugar, e a visibilidade de que precisam, para resolver problemas para desktop. Com a descoberta automatizada, o mapeamento da rede local e várias funções para isolar a causa raiz de problemas relacionados 
à infraestrutura, o OptiView XG ajuda a distribuir a solução de problemas em sua organização, tornando todos mais eficazes.

Fonte: site do fabricante 

Português, Brasil